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GaAs, metodo di crescita: VGF (111)B, drogato con Si, diametro 2" x 0,35 mm, 2sp - GASicB50D035C2US

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GaAs, metodo di crescita: VGF ,(111)A, drogato con Zn, tipo P, diametro 2" x 0,5 mm, 2sp - GAZncA50D05C2US5

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GaAs, metodo di crescita: VGF ,(111)B, drogato con Zn, tipo P, diametro 2" x 0,4 mm, 2sp

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GaAs, Metodo di crescita: VGF(100) drogato con Si, tipo N, diametro 3" x 0,625 mm, 2sp, concentrazione di portatori: (1,4-3,96) x 10^18 /cm^3 - GASia76D0625C2US5

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GaAs, Metodo di crescita: VGF(100) drogato Si, tipo N, diametro 4" x 0,625 mm, 2sp, concentrazione portatori: (1,47-3,78) x 10^18 /cm^3 - GASia100D06C2US5

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GaAs, crescita VGF (110) ori. Tipo N, drogato con Si, 10 x 5 x 0,3 mm, 2sp

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GaAs, cresciuto in VGF (110) ori. Tipo N, drogato con Si, 10x10x0,3 mm, 2sp

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GaAs, cresciuto in VGF (110) ori. Tipo N, drogato con Si, diametro 2" x 0,35 mm, 1sp

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GaAs, crescita VGF (110) ori. Tipo N, drogato con Si, 5 x 5 x 0,3 mm, 2sp

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GaAs, VGF cresciuto (110) oi. non drogato, 10x10x0,5mm, 1sp

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GaAs, VGF cresciuto (110) oi. non drogato, semi-isolante, 20x20x0,5mm, 1sp

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GaAs, orientamento VGF Grown (110), SI, non drogato, diametro 2" x 0,5 mm, 1sp,

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GaAs, orientamento VGF (110), SI, non drogato, diametro 2" x 0,5 mm, 2sp - GAUe50D05C2-US

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Polvere di elettrolita per SOFC drogata con gadolinio (CGO), confezione da 500 g - EQ-SOFC-CGO

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GaN (0001) 10x10,5x0,35 mm, 1sp, semi-isolante

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GaN (0001) 10x10,5x0,35 mm, 2sp, semi-isolante

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GaN, tipo N, drogato con Si (0001) 10x10,5x0,35 mm, 2sp

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GaN, tipo N, drogato con Si (0001) 10x10,5x0,35 mm, 1sp - faccia Ga lucidata

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GaN - Substrato a cristallo singolo (0001), 50,8 mm x 0,25 mm, tipo N+, 2SP

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GaN - Substrato a cristallo singolo (0001), 50,8 mm x 0,25 mm, tipo N+, 1SP