MTI | SKU:
GASie50D035C1US5
GaAs, cresciuto in VGF (110) ori. Tipo N, drogato con Si, diametro 2" x 0,35 mm, 1sp
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GaAs, cresciuto in VGF (110) ori. Tipo N, drogato con Si, diametro 2" x 0,35 mm, 1sp
MTI
Specifiche tecniche:
- Wafer a cristallo singolo di GaAs
- Metodo di crescita: VGF
- Orientamento: (110)
- Dimensioni: 2" dia x 0,35 mm
- Lucidatura: Un lato lucidato
- Doping: Drogato con Si
- Tipo di conduttore: S-C-N
- Concentrazione di portatori: (1,20-2,45)x10^17/cm^3
- Mobilità: 3380-3970 cm^2/V.S
- Ra (ruvidità media) : < 0,4 nm
- Resistività: (0,76-1,37)x10^-2 ohm.cm
- Nota: wafer pronti per l'EPI
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