Alto vuoto

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Forno tubolare 1100C a tre zone ad alta pressione e alto vuoto con tubo in superlega - OTF-1200X-III-HP-80

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Forno a tubo da 1200°C Max (ID 3") con funzione di scorrimento del campione sotto vuoto elevato - OTF-1200X-DVD-M

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1250°C Max. Forno a camera ad alto vuoto per campioni da 4" - VBF-1200X-HV

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1400°C Forno a camera ad alto vuoto a parete fredda (Ø100×120 mm) HVF-1200X-CW

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Forno tubolare ad alto vuoto a 1500°C con tubo da 110 mm di diametro - GSL-1500X-120

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Forno ad alto vuoto a parete fredda a 1600°C (area di riscaldamento 200×200×300 mm) - HVF-1600X-12L

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Forno tubolare 1700C con sistema ad alto vuoto (1,0E-4 torr) - GSL-1700X-HV-LD

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Forno tubolare 1700C con sistema ad alto vuoto (10^-4Torr) e miscelatore di gas MFC (2-4 canali opzionali) - GSL-1700X-4-HVC-LD

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Forno ad alto vuoto a camera SS310 da 800°C 8" ID VBF-800X-HV

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Forno a camera ad alto vuoto e pressione a 800°C (500x500x500 mm fino a 3,5 bar) GSL-800-L

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Forno ad alta temperatura e alto vuoto (900°C max. 18x18x18, 90 litri) con porta scorrevole - HTVO-90

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Deposizione chimica in fase di vapore potenziata con plasma ad alto vuoto (tipo CCP) - VTC-PECVD

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Forno tubolare a tre zone (1200C) con stazione ad alto vuoto (1,0E-4 torr) + stazione gas MFC a 4 canali per CVD - OTF-1200X-III-HVC-LD

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Forno tubolare con vuoto spinto (1E-4 torr) e stazione di flusso del gas a 3 canali per CVD - Serie OTF-1200X-HVC3

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Forno tubolare UHV con recipiente da 100 mm di diametro per leghe a base di Ni a 1150oC max. fino a 10-6 Torr - OTF-1150X-III-100

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Forno di riscaldamento e pressatura ultraveloce (UHP) fino a 2900°C e 500 kgf con vuoto ultraelevato - RTP-MS