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1200°C Max. Forno doppio a scorrimento automatico (Ø50 mm) per la crescita di TMD - OTF-1200X-50-DFSL

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1200°C Max. Forno a muffola compatto con funzione TGA di precisione ( 3,3 L) - KSL-1200J -TGA

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1200°C Max. Forno tubolare compatto (50 mm OD) con funzione TGA di precisione - OTF-1200S-TGA

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1200°C Max. Piccolo forno Bridgman per la crescita dei cristalli con tubo di quarzo da 80 mm a tenuta d'aria - SKJ-BG-1200

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Forno rotativo CVD assistito da plasma a 1200°C con tubo da 2" - GSL-1200R-MWPE

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Forno CVD MIST a 1200°C per la crescita di cristalli - OTF-1200X-Mist

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Forno a tubo scorrevole a 1200°C (5'' OD) per RTP tramite riscaldamento a lampada IR - OTF-1200X-5-SL

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Forno a tubo scorrevole a 1200°C per il trattamento termico rapido - OTF-1200X-RTP-5S

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Forno a tubo scorrevole a 1200°C (100 mm OD) per l'elaborazione termica rapida - OTF-1200X-100-EDSL

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Forno tubolare a 1200°C a tre zone con tubo in superlega da 82 mm e rilevatore di idrogeno - OTF-1200X-III-H2

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Forni tubolari a 1200°C a tre zone collegati a glove-box con sistema di purificazione - OTF-1200X-III-GB

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Forno tubolare a 1200°C a tre zone con tubo al quarzo da 11" o 15" e flangia a cerniera - OTF-1100X-III

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Forno tubolare a 1200°C (ID 3") con scorrimento automatico del crogiolo interno - OTF-1200X-80-DVD

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Forno tubolare a 1200°C a due zone con tubo al quarzo opzionale da 11" a 15" - OTF-1100X-II-XX

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Forno verticale divisibile a 1200°C per reattore tubolare fai-da-te (diametro 1,2") con regolatore di temperatura - OTF-1200X-SVN

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1200ºC max. Forno di tempra da 2" a tenuta d'aria con dispositivo elettromagnetico - VT-1200X-50

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1200ºC max. Forno di fusione-fusione ad alto vuoto con agitazione e funzione di carica secondaria - VMC-1200

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120C Max. Bagno a secco con blocchi di riscaldamento opzionali - HB-120S

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120L/min Pompa per vuoto oil free-OFP-14

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Rivestitore di film a 120°C max. Macchina per la spalmatura di film con letto a vuoto riscaldabile (12 "Lx24 "L) e lama di taglio da 250 mm - MSK-AFA-II-VC-FH