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Forno a muffola grande 1100C (16 x 16 x 16", 64 L) con controller digitale e porta di sfiato - KSL-1200X-L

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Forno a vuoto verticale 1100C Max con flangia (camera al quarzo da 8" OD) - VBF-1200X-V9

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1100C Max. Verniciatore a immersione o crescita Bridgman con tubo da 2" controllato in atmosfera - PTL-HT

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Forno rotativo PE-HPCVD 1100C con evaporatore in situ, MFC a 4 canali e pompa per vuoto - OTF-1200X-S-II-PEC4

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Forno rotativo PECVD 1100C con pompa a vuoto - OTF-1200X-S-II-PECVD

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Forno a tubo di quarzo 1100C (diametro 2") con calibratore di temperatura e pompa a vuoto - GSL-1100X-50-LVT-LD. Calibratore di temperatura e pompa per vuoto - GSL-1100X-50-LVT-LD

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Forno tubolare 1100C a tre zone ad alta pressione e alto vuoto con tubo in superlega - OTF-1200X-III-HP-80

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Forno tubolare ad alta pressione superlega a tre zone 1100C con controllo del flusso di gas - OTF-1200X-HP-III-80-GF

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Forno tubolare 1100C con flangia sottovuoto (zona di calore da 12") e regolatore di temperatura programmabile - GSL-1100X-LD

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Forno a vuoto con caricamento dal basso a 1100°C (8,6" ID, 7,6 litri) - VBF-1200X-E8

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Forno fusorio a crogiolo a 1100°C con funzione di agitazione per glovebox - KSL-1100X-SV-RM

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Forno tubolare a doppia zona a 1100°C Tubo al quarzo da 11" e flange sotto vuoto opzionali (zona di riscaldamento da 24") - GSL-1100X-II-11

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1100°C Max 8OD7.6 LV Forno a camera stagna con flangia passante-VBF-1200X-H8

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1100°C Max IR Riscaldamento/raffreddamento rapido e forno di caricamento dal basso controllato dall'atmosfera VBF1100XRTPASD

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Forno tubolare riscaldato a microonde a 1100°C max: diametro opzionale di 1", 1,57" e 2". - GSL-MW-25

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1100°C Max. Forno tubolare compatto (50 mm OD) con funzione TGA di precisione - GSL-1100X-TGA

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1100°C Max. Forno a muffola (12x12x12") con camera di lega per il deceraggio - KSL1200X-M-F

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1100°C Max. Fresatura a sfere rotante con funzione di flusso di gas - OTF-1200X-R5-BM

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Forno a caricamento dall'alto a 1100°C per cella a sali fusi o elettrolisi - VBF-1200S-MS

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Forno tubolare a 1100°C con sublimatore di precursore solido per strati 2D CVD di TMD - OTF-1200X-4-NW-UL