MTI | SKU:
OTF-1200X-S-II-PECVD
Forno rotativo PECVD 1100C con pompa a vuoto - OTF-1200X-S-II-PECVD
€0,00
Prezzo unitario
/
Non disponibile
Impossibile caricare la disponibilità del ritiro
Consegna e spedizione nell'UE
Consegna e spedizione nell'UE
Nel preventivo aggiungeremo i costi di spedizione, assicurazione e sdoganamento.
Forno rotativo PECVD 1100C con pompa a vuoto - OTF-1200X-S-II-PECVD
MTI
OTF-1200X-S-II-PECVD è un 1000ºC Sistema rotante a due zone per la deposizione chimica da vapore potenziata da plasma (PE-CVD). È composto da un generatore di plasma RF (a radiofrequenza) da 300 W, da una rete di accoppiamento e da una pompa per vuoto ad alte prestazioni. Questo sistema è uno strumento eccellente per trattamento termico di polveri di composti inorganici con uniformità di rivestimento superficiale (ad esempio, preparare polveri per catodi di batterie agli ioni di litio con rivestimenti conduttivi sulla superficie del campione).).
SPECIFICHE:
SPECIFICHE:
|
|
Forno rotante a due zone |
|
Alimentazione al plasma RF
|
![]() ![]() ![]() |
|
|
![]() ![]() |
|
Velocità di rotazione del tubo
|
|
Pompa del vuoto e manometro
|
|
|
|
|
|
Garanzia
|
Garanzia limitata di un anno con assistenza a vita (le parti di consumo come i tubi di lavorazione, gli O-ring e gli elementi riscaldanti non sono coperti dalla garanzia; si prega di ordinare le parti di ricambio nei prodotti correlati qui sotto).
|
|
|
|
|
|
|
Note applicative![]() |
|