Substrato di cristallo A-Z

MTI

Wafer LiNbO3, grado ottico, taglio Z, 3 "x0,5mm, 2sp

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Wafer LiNbO3, grado ottico, taglio a X, 3" x0,5 mm, 2sp

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Wafer LiNbO3, grado ottico, taglio Z, 3 "x1,0 mm, 2sp

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LiNbO3, taglio a Z, wafer da 2 "x0,5 mm, 1sp - LNSZ50D05C1

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LiNbO3 grado SAW, taglio a Z, 10x10x0,5mm, 1sp

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LSAT Substrato a cristallo singolo (100)/(100) 10x5x1.0mm 1sp - LSATa100510S1US5

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KTaO3 (100) 10x10 x 0,5 mm, 1sp - KTOa101005S1

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KH2PO4 (100), 10x5x 1,0 mm 1 Lato lucidato

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KH2PO4 (100), 10x10x 1,0 mm 1 Lato lucidato

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KCl (100), 10 x 10 x 2,2-2,5 mm, 1 lato lucidato - kca101025S1

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Sostituzione della pellicola Kapton per il supporto per campioni a tenuta d'aria

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Piastra di grafite isomodellata, rettificata, 0,125" T x 4" L x 4" L per celle a combustibile - ISG4425G-US

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InSb (111)B diametro 2" x 0,5 mm, non drogato, tipo N, lucidato su un lato - ISUcB50D05C1US

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InSb (111)A 49 mm di diametro x 0,5 mm, non drogato, tipo N, un lato lucidato

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InSb (111)-A diametro 2" x 0,5 mm, drogato con Te, tipo N, 1 lato lucidato

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InSb (100) 5x5x0,5 mm, non drogato, tipo N, 1 lato lucido

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InSb (100) 5x5x 0,5 mm, non drogato, tipo N, 2 lati lucidati

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InSb (100) 5x5x 0,45 mm, tipo P, drogato con Ge, lucidato su due lati

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InSb (100) 5x5x 0,45 mm, tipo P, drogato Ge, 1 lato lucidato

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InSb (100) 5 x 5 x 0,45 mm, tipo N, drogato Te, 1 lato lucido