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ISUcA49D05C1US
InSb (111)A 49 mm di diametro x 0,5 mm, non drogato, tipo N, un lato lucidato
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InSb (111)A 49 mm di diametro x 0,5 mm, non drogato, tipo N, un lato lucidato
MTI
Wafer di InSb da 2" (tipo N, non drogato)
- Dimensioni: 49 mm di diametro x 0,5 mm di spessore
- Orientamento <111> +/-0,5o con due piastre di riferimento
- Lucidatura: un lato lucidato (lato posteriore inciso)
- Imballaggio: Sigillato sotto azoto con contenitore per singolo wafer in camera bianca di classe 1000
Caratteristiche
- Metodo di crescita LEC
- Orientazione (111)A +/- 0.5o
- Orientamento Piatto
- Doping Non drogato
- Tipo di conducibilità Tipo N
- Concentrazione del vettore <1E14 @77K
- Mobilità >2E5 cm^2/V.s
- EPD <500 cm^-2