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1200C max. Forno PECVD a doppia zona scorrevole con erogazione del gas e pompa del vuoto - OTF-1200X-II-PEC4SL-LD

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1200C Max. Forno a ultrasuoni per pirolisi spray a 3 zone per la sintesi di nano particelle - OTF-1200X-III-PGEP

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Forno a muffola 1200C (12" x 8" x 5", 7,2L) con porta di sfiato e finestra in quarzo - KSL-1200X

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Forno a muffola 1200C (12x12x12", 27 L) con controllore programmabile - KSL1200X-M

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Forno a cassetta 1200C (6 "x6 "x7", 4,2 litri) con controller programmabile separato - KSL-1200X-J-F

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Forno tubolare HPCVD a tre zone da 5" D a 1200 C con sistema di alimentazione della sorgente sequenziale e di co-deposizione fino a 3 crogioli - OTF-1200X-III-HPCVD-S3

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Forno tubolare a 1200 C con scorrimento interno del campione tramite magnete per DVD e RTP - OTF-1200X-S-DVD

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Forno economico da 1200oC (6 "x 6 "x5" , 3 litri, 110V) con controller programmabile - KSL-1200X-JS

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Forno elettrolitico a 1200oC con elettrodi per sali fusi - VEF-1200

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Forno sottovuoto a 1200°C con caricamento dal basso (8,6 "IDX7,6 "H) con raffreddamento rapido -VBF-1200X-E8

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Sistema di colata sottovuoto compatto a 1200°C (2 kg max) con kit di avvio - EQ-VMCS-1200-LD

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Forno tubolare ad alta pressione a 1200°C per gas inerti e ossigeno fino a 90 bar - GSL-1200X-90B

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Forno ibrido a 1200°C con muffola (6" x 6" x 7") e tubo (2" o 4" OD) - KSL-1200X-J-H

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1200°C max. Forno tubolare a 3 zone (°150 mm, 6" max) con tubo e flangia - GSL-1200X--D6

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1200°C Max. Forno a muffola con riscaldamento a 5 lati (20x20x20", 125L) con camera di lega opzionale - KSL-1200X-MAX

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1200°C Max. Forno a muffola compatto con funzione TGA di precisione ( 3,3 L) - KSL-1200J -TGA

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1200°C Max. Forno tubolare compatto (50 mm OD) con funzione TGA di precisione - OTF-1200S-TGA

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1200°C Max. Piccolo forno Bridgman per la crescita dei cristalli con tubo di quarzo da 80 mm a tenuta d'aria - SKJ-BG-1200

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Forno rotativo CVD assistito da plasma a 1200°C con tubo da 2" - GSL-1200R-MWPE

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Forno CVD MIST a 1200°C per la crescita di cristalli - OTF-1200X-Mist