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OTF-1200X-II-50-PEC4SL
1200C max. Forno PECVD a doppia zona scorrevole con erogazione del gas e pompa del vuoto - OTF-1200X-II-PEC4SL-LD
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1200C max. Forno PECVD a doppia zona scorrevole con erogazione del gas e pompa del vuoto - OTF-1200X-II-PEC4SL-LD
MTI
OTF-1200X-II-PEC4SL è un sistema di forni PE-CVD a tubi scorrevoli a più zone, composto da una sorgente di plasma RF da 300 W, con tubi di dimensioni opzionali e una guida scorrevole integrata, un misuratore di portata massica di precisione a 4 canali con serbatoio di miscelazione del gas e una pompa del vuoto oil-less di alta qualità. Questo forno PE-CVD è un nuovo strumento per la crescita di nanofili o grafene con i seguenti vantaggi: - un'elevata qualità del prodotto.enefici:
- Lavorazione a temperatura più bassa rispetto alla CVD convenzionale
- Elevata velocità di riscaldamento e raffreddamento grazie a un forno scorrevole
- Ogni zona di riscaldamento crea un gradiente termico fino a 200ºC
- 1100ºC Temperatura massima di lavoro
- Offre un'ampia gamma di depositi di materiali, come nanofili (o tubi) di carbonio e ZnO e grafene a strato singolo.
Modello
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OTF-1200X-II-50-PEC4SL | OTF-1200X-II-80-PEC4SL | OTF-1200X-III-5-PEC4SL | ||
Dimensione del tubo
(Selezionare nella barra delle opzioni) |
2" (50 mm) OD x 1,7" ID x 71" Lunghezza | 3,14" (80 mm) OD x2,83" ID x71'' L |
5" (130 mm) OD x 4,8" ID x 79'' Lunghezza | ||
Fornace
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OTF-1200X-II-50 | OTF-1200X-II-80 | OTF-1200X-III-S-130 | ||
Caratteristiche |
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Alimentazione al plasma RF ![]() |
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Stazione della pompa del vuoto e valvole
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Flussimetri di massa e stazione di miscelazione dei gas |
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Dimensioni complessive
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Peso e dimensioni di spedizione
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Peso di spedizione: 1500 libbre
Totale 4 pallet: (1) |