Specialità

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Forno rotativo 1100C 15 con 3 zone e alimentazione della polvere per CVD in polvere - OTF-1100X-R-15-AF

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Forno tubolare RTP (4'' OD) a 1000 ºC max a scorrimento con riscaldamento e raffreddamento rapido a infrarossi - OTF-1200X-RTP-4-SL

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Forno a tubo scorrevole a doppia zona da 1500°C max (50 mm OD) con flange per riscaldamento/raffreddamento rapido - OTF-1500X-II-50SL

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Forno tubolare ad alto vuoto a 1500°C con tubo da 110 mm di diametro - GSL-1500X-120

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Forno tubolare a 1200°C (ID 3") con scorrimento automatico del crogiolo interno - OTF-1200X-80-DVD

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Forno a tubo scorrevole a 1200°C (100 mm OD) per l'elaborazione termica rapida - OTF-1200X-100-EDSL

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Forno a tubo scorrevole a 1200°C per il trattamento termico rapido - OTF-1200X-RTP-5S

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Forno a tubo scorrevole a 1200°C (5'' OD) per RTP tramite riscaldamento a lampada IR - OTF-1200X-5-SL

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Forno di pressatura rapida sotto vuoto fino a 1600C e 50 Mpa con stampo in grafite da 0,5" - OTF-1700X-RHP4

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Forno di riscaldamento e pressatura ultraveloce (UHP) fino a 2900°C e 500 kgf con vuoto ultraelevato - RTP-MS

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Forno a tubo RTP a due zone con riscaldamento a infrarossi (ID 4'') con portacampioni scorrevoli - OTF-1200X-IR-IISL

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Forno tubolare con vuoto spinto (1E-4 torr) e stazione di flusso del gas a 3 canali per CVD - Serie OTF-1200X-HVC3

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Forno tubolare a tre zone (1200C) con stazione ad alto vuoto (1,0E-4 torr) + stazione gas MFC a 4 canali per CVD - OTF-1200X-III-HVC-LD

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Forno ad alta pressione a doppia zona di riscaldamento orientabile -10 MPa @ 1200°C per la crescita di cristalli GaN - CM-HIP-2-II

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Forno tubolare a 1200 C con scorrimento interno del campione tramite magnete per DVD e RTP - OTF-1200X-S-DVD

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Forno tubolare verticale con tempra a gas inerte 1700C Max. - GSL-1700X-VGQ-60

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Deposizione chimica in fase di vapore potenziata con plasma ad alto vuoto (tipo CCP) - VTC-PECVD

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Forno ad alta temperatura e alto vuoto (900°C max. 18x18x18, 90 litri) con porta scorrevole - HTVO-90

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Forno per tubi ad alta pressione con tubo in lega °110 (80 mm ID) (max. 20 MPa @300oC.) - OTF-1200X4-HP20

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Dispositivo di controllo e smaltimento dei gas infiammabili - GSL-KR200