Wafer Ge (100) non drogato, diametro 2" x 0,5 mm, resistività: >50 ohm-cm, 2SP - GEUa50D05C2R50US

Specifiche dei wafer Ge

• Metodo di crescita: CZ
• Orientamento: (100) +/_0,5 Deg.
• Dimensioni del wafer: 2" dia x 500 micron 
• Lucidatura della superficie: due lati lucidati ad epi
• Rugosità superficiale: RMS o Ra:~ 10 A(mediante AFM)
• Doping: Non drogato
• Tipo di conduttore: Tipo N
• Resistività: >50 Ohm/cm (Se si desidera misurare la resistività in modo accurato, 
    si prega di ordinare il nostro Strumento portatile a 4 sonde per prove di resistività.)                    
• Pacchetto: camera bianca di classe 1000  

Proprietà tipiche:

• Struttura: Cubica, a = 5,6754 A
• Densità: 5,323 g/cm3 a temperatura ambiente
• Punto di fusione: 937,4 ^oC
• Conduttività termica: 640