Wafer GaP, non drogato (111) 10x10x0,5 mm, 2sp
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Wafer GaP, non drogato (111) 10x10x0,5 mm, 2sp
MTI
- Wafer in cristallo singolo di GaP,
- Dimensioni: 10 mm x 10 mm x 0,5 mm,
- Doping: non drogato,
- Tipo di conduzione: Tipo N,
- Orientamento: (111)
- Lucido: Due lati
- Finitura superficiale (RMS o Ra) : < 8A
Proprietà fisiche tipiche |
||
Struttura del cristallo |
Cubica. a =5,4505 Å |
|
Metodo di crescita |
CZ (LEC) |
|
Densità |
4,13 g/cm3 |
|
Punto di fusione |
1480 oC |
|
Espansione termica |
5.3 x10-6 / oC |
|
Dopante |
Drogato S |
non drogato |
Asse di crescita del cristallo |
<111> o <100> |
<100> o <111> |
Tipo di conduzione |
N |
N |
Concentrazione del vettore |
2 ~ 8 x1017 /cm3 |
4 ~ 6 x1016 /cm3 |
Resistività |
~ 0,03 W-cm |
~ 0,3 W-cm |
EPD |
< 3x105 |
< 3x105 |