Wafer di zaffiro Al2O3, piano R, 10x10x0,5 mm, 1SP - ALR101005S1

Caratteristiche:

• Il substrato di zaffiro è il substrato più popolare per i nitruri III-V, i superconduttori e i film magnetici epi grazie al reticolo meno disadattato e alle proprietà chimiche e fisiche stabili.
• Dimensioni del wafer: 10 mm x 10 mm x 0,5 mm di spessore
• Tolleranza di orientamento: <1-102> +/-0.5 ^o
• Superficie lucidata: La superficie del substrato è lucidata EPI mediante una speciale procedura CMP con RA < 5 A
• 1 lato lucidato 
• Confezione: Ogni wafer è confezionato in camera bianca di classe 1000 con sacchetto di plastica di grado 100 e contenitore per wafer.
  Precauzioni: Il wafer di zaffiro piano R è facile da tagliare rispetto a quello piano C. Si prega di maneggiarlo con cura
  

Proprietà tipiche:

• Struttura cristallina: Esagonale. a=4,758 Angstroms c=12,99 Angstroms,
• Punto di fusione: 2040 gradi C
• Densità: 3,97 grammi/cm² 
• Tecnica di crescita: CZ
• Purezza del cristallo: >99.99%
• Durezza: 9 (mohs)
• Espansione termica: 7,5x10^{-6 (}/ ^oC)
• Conduttività termica: 46,06 @ 0 ^oC, 25.12 @ 100 ^oC, 12.56 @ 400 ^oC ( W/(m.K) )
• Costante dielettrica: ~~ 9,4 @300K sull'asse A ~~ 11,58@ 300K sull'asse C
• Tangente di perdita a 10 GHz: < 2x10^-5  sull'asse A, <5 x10^-5  sull'asse C

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ZnO	SiC	GaN	MgAl2O4 (spinello)	LiGaO2
Altro Al2O3	Modello AlN	Portatori di wafer	Pulitori al plasma	Rivestimenti per film