Sistema di evaporazione termica per wafer da 2" con 4 sorgenti e un regolatore di temperatura - GSL-1700X-EV4

• Camera al quarzo di 280 mm di diametro esterno x 260 mm di diametro interno x 310 mm di altezza per facilitare la pulizia e il caricamento dei campioni.
• Supporto del campione ruotabile da 2" Dia per un rivestimento uniforme del film
• Riscaldatore a bobina in tungsteno e crogiolo in allumina per un rivestimento ad alta temperatura fino a 1700 ºC
• Controllo di precisione della temperatura con 30 segmenti programmabili e accuratezza di +/- 1 ºC
• Possibilità di ottenere un alto vuoto fino a 1,0E-5 Torr tramite turbopompa opzionale
• La porta di flusso del gas e la valvola sono integrate per lo spurgo della camera e la possibilità di CVD

• Tensione di ingresso: AC 208 - 240 V 50/60 Hz, monofase ( 110V AC disponibile tramite trasformatore da 1500W )
• Potenza in ingresso: 1.200 W
• Potenza in uscita: 12 V e 30 A di corrente massima. Corrente di lavoro consigliata <30 A
• Cavo di alimentazione incluso senza spina

• Quattro crogioli di evaporazione in allumina con capacità di 3 mL ciascuno. Quattro fonti possono essere riscaldate una per una per ottenere un rivestimento multistrato. 
• Sul fondo del crogiolo di allumina è incorporato un riscaldatore a bobina di tungsteno con termocoppia (per il controllo della temperatura). 
• 4 pezzi Termocoppia di tipo S (installata in ogni crogiolo) - riscaldamento da 200 ºC a 1500 ºC (PIC. 2)
• Termocoppia di tipo B opzionale (con sovrapprezzo) - riscaldamento da 1200 ºC a 1700 ºC
• Un regolatore di temperatura digitale con 30 segmenti programmabili e precisione di +/- 1 ºC (PIC. 3)
• Si consiglia di limitare la velocità di riscaldamento/raffreddamento a 0,3 ºC/s (o 20 ºC/min) al di sotto dei 1200 ºC e a 0,15 ºC/s (o 10 ºC/min) tra 1200 e 1700 ºC.
• Per il riscaldamento continuo sopra i 1300 ºC, limitare il tempo di funzionamento a meno di 1 ora per preservare la durata dell'O-ring della flangia inferiore.
• Per un rivestimento rapido fino a 2000 °C, l'utente può rimuovere la termocoppia, il blocco termico in allumina e il crogiolo in allumina, caricare il materiale di evaporazione direttamente nel riscaldatore a bobina di tungsteno e utilizzare l'attuale modalità di controllo manuale (PIC. 3).
• Sono inclusi quattro crogioli di allumina (fino a 1700 ºC) e due riscaldatori a bobina di tungsteno. Per ordinare le parti di ricambio, consultare la sezione Opzionali.

• Sulla flangia superiore sono installati uno stadio campione ruotabile da 2" e il relativo otturatore per il rivestimento di wafer da 2".
• Velocità di rotazione: 5 rpm
• La distanza tra il supporto del campione e la sorgente di evaporazione è regolabile da 40 mm a 85 mm
• Per favore fare clic qui per sapere come regolare la posizione dello stadio campione.

• Precisione Sistemi di analisi di film sottili e rivestimenti - TFMS-LD è disponibile a un costo aggiuntivo, per i dettagli fare clic sulla figura 1.

• La porta per il vuoto del KF25 è installata per il collegamento a una pompa per il vuoto.
• Il vuoto può raggiungere <1E-5 Torr pompando durante la notte con la turbopompa opzionale.
• Per il rivestimento è necessaria una pompa per vuoto. Scegliere tra le seguenti opzioni di prodotto
• Pompa per vuoto rotativa a palette a doppio stadio con trappola per vapore per eliminare la nebbia d'olio, in grado di raggiungere un vuoto fino a 1,0E-2 Torr per l'evaporazione di materiali metallici nobili, come oro, argento e materiali organici. Anti-corrosivo Calibro a membrana capacitivo è incluso
• Sistema compatto di pompa per vuoto turbomolecolare è in grado di fornire un livello di vuoto fino a 1,0E-5 Torr per l'evaporazione di materiali sensibili all'ossigeno, come Al. Mg, Li, ecc. La pompa include un misuratore combinato Pirani e un misuratore a catodo freddo per misurare il vuoto fino a 1,0E-8 Torr.

• Il raccordo per tubo da 1/4 è integrato per lo spurgo della camera o per il trattamento del gas di formazione.
• Una valvola a spillo è incorporata per controllare la portata del gas

• Extra crogiolo di allumina e riscaldatore a bobina di tungsteno possono essere ordinati presso MTI con un sovrapprezzo (fare clic sulle immagini qui sotto).

• Certificato CE
• La certificazione NRTL e CSA è disponibile su richiesta

• Per ottenere l'alto vuoto richiesto per l'evaporazione di alcuni materiali, gli utenti possono
• Controllare che la camera, l'O-ring e la flangia non presentino particelle, fibre o graffi. Utilizzare un tessuto privo di lanugine inumidito con alcol isopropilico (IPA) per pulire la superficie.
• Utilizzare un nastro riscaldante per cuocere la camera a 150 ºC e preriscaldare il riscaldatore della bobina e il crogiolo a 500 ºC, pompando con la turbopompa opzionale per almeno 2 ore.
• Pompare la camera per una notte senza riscaldamento se è necessario un vuoto superiore a 1,0E-5 Torr.
• NON rilasciare il vuoto e non interrompere il pompaggio quando il rivestimento è in fase di evaporazione! Durante il raffreddamento del riscaldatore, interrompere il pompaggio o rilasciare il vuoto SOLO quando la temperatura scende sotto i 100 ºC!

SPC2-ARSC