LaAlO3, (100) orn. substrato 10 x 5 x 0,5 mm, 1 lato lucidato a specchio

Specifiche del substrato:

• Dimensioni del wafer: 10 x 5 x 0,5 mm spessore +/-0,05 mm,
• Orientamento del wafer: (100) +/-0,5 gradi 
• Lucidatura:  Un lato  Lucidatura CMP con assenza di danni sub-superficiali. 
• Finitura superficiale (RMS o Ra) :  < 10A
• Pacchetto: In camera bianca di classe 1000 e in sacchetto di plastica di grado 100 in un contenitore per wafer.
• Costante di Lattice a=3,792Å Pseudocubico
• Attenzione: Il cristallo LaAlO3 presenta una gemma visibile sulla superficie lucidata, che è di natura normale.
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