MTI  |  SKU: LAOa50D05C1

LaAlO3,(100) Orn. Lucidatura EPI 2" x 0,5mm wafer 1 SP - LAOa50D05C1 --- Quantità scontata!

€404,53


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LaAlO3,(100) Orn. Lucidatura EPI 2" x 0,5mm wafer 1 SP - LAOa50D05C1 --- Quantità scontata!

MTI

 

LaAlO3 fornisce una buona corrispondenza reticolare con molti materiali con struttura a perovskite. È un eccellente substrato per la crescita epitassiale di superconduttori ad alta Tc e di film sottili magnetici e ferroelettrici. Le proprietà dielettriche del cristallo LaAlO3 sono adatte per applicazioni a microonde e risonanza dielettrica a bassa perdita.

Specifiche del substrato:

  • Dimensioni del wafer: 2" dia +/- 0,5 mm x 0,5 spessore +/-0,05 mm
  • Orientamento del wafer: (100) +/-0,5 gradi 
  • Orientamento dei bordi: <001> +/-1 Deg con 16 mm di lunghezza
  • Lucidatura: lucidata con CMP e con sotto-superficie libera danneggiata
  • Finitura superficiale (RMS o Ra) : < 8A
  • Pacchetto: In camera bianca di classe 1000 e in sacchetto di plastica di grado 100 in un contenitore per wafer.
  • Costante di Lattice a=3,792ŠPseudo cubico)
  • Attenzione: Il cristallo LaAlO3 presenta un gemello visibile sulla superficie lucidata, che è di natura normale.
  •       
Proprietà fisiche tipiche

Struttura cristallina

Pseudo Cubico a=3,792Š

Metodo di crescita

Czochralski

Densità

6.52   g/cm3

Punto di fusione

2080 oC        

Espansione termica

 10 (x10-6/ oC)

Costante dielettrica

~ 25 

Tangente di perdita a 10 GHz

~3x10-4 @ 300K ,       ~0.6 x10-4 @77K

Colore e aspetto

Da trasparente a marrone in base alle condizioni di ricottura. Gemelli visibili sul substrato lucido

Stabilità chimica

Insolubile in acidi minerali a 25 oC e solubile in H3PO3 a> 150 oC