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ISUa101005S1
InSb (100) 10x10x 0,5 mm, non drogato, tipo N, 1 lato lucido
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InSb (100) 10x10x 0,5 mm, non drogato, tipo N, 1 lato lucido
MTI
Substrato InSb 10x10x0,5 mm (tipo N, non drogato)
- Dimensione: 10x10x0,5 mm
- Orientamento <100> +/-0,5o
- Lucidatura: un lato lucidato (lato posteriore inciso)
- Imballaggio: Sigillato sotto azoto con un singolo wafer comtainer in camera bianca di classe 1000.
Caratteristiche
- Metodo di crescita LEC
- Orientazione (100) +/- 0,5o
- Doping Non drogato
- Tipo di conducibilità Tipo N
- Concentrazione di portatori <1E15 @77K
- Mobilità (5,0-3,5)E5 cm2/Vs
- EPD <200 / cm 2