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IPUcA50D035C1US
InP-VGF cresciuto (111)A non drogato, wafer da 2 "x0,35 mm, 1sp
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InP-VGF cresciuto (111)A non drogato, wafer da 2 "x0,35 mm, 1sp
MTI
- Wafer a cristallo singolo di InP
- Orientamento: (111)A
- Dimensioni: 2" di diametro x 0,35 mm
- Doping: non drogato
- Tipo di conduzione: Tipo N, semiconduttore
- Resistività: (2,84-3,78)E^-1 ohm.cm
- Concentrazione del portatore: (4,04-5,62)E15 /c.c.
- Mobilità: 3910-4230 cm^2/v.s.
- Lucidatura: un lato lucidato
- Ra (ruvidità media) : < 0,4 nm
- EPD: impossibile da misurare a causa dell'orientamento (111)A
- Superficie e imballaggio pronti per l'EPI
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