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GAUa100505S2US
GaAs , Metodo di crescita: VGF ,(100) semi-isolato non drogato 10x5 x0,5 mm, 2SP
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GaAs , Metodo di crescita: VGF ,(100) semi-isolato non drogato 10x5 x0,5 mm, 2SP
MTI
- Wafer a cristallo singolo di GaAs
- Metodo di crescita: VGF
- Orientamento: (100)
- Dimensioni: 10x5 x 0,5 mm
- Lucidatura: due lati lucidati;
- Ra (ruvidità media): < 0,4 nm
- Doping: non drogato
- Tipo di conduttore: Semi-isolante
- Resistività: (0,6-2,0)E8 Ohm.cm
- Mobilità: 5350-6380 cm^2/v.s.
- EPD: <5000/cm2
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