MTI | SKU:
OTF1200XIIIR5-PECVD
Forno tubolare rotante da 5" con alimentazione e ricezione per PE-CVD in polvere e pulizia - OTF-1200X-III-R5-PECVD
€0,00
Prezzo unitario
/
Non disponibile
Impossibile caricare la disponibilità del ritiro
Consegna e spedizione nell'UE
Consegna e spedizione nell'UE
Nel preventivo aggiungeremo i costi di spedizione, assicurazione e sdoganamento.
Forno tubolare rotante da 5" con alimentazione e ricezione per PE-CVD in polvere e pulizia - OTF-1200X-III-R5-PECVD
MTI
OTF-1200X-III-R5-PECVD è un 1200ºC Sistema rotante a tre zone per la deposizione di vapore chimico potenziata da plasma (R-PE-CVD), progettato per il rivestimento della superficie della polvere per formare particelle con struttura a guscio centrale a una temperatura relativamente bassa, e per la pulizia della superficie della polvere. La temperatura, la potenza del plasma e il gas MFC a 4 canali sono controllati da un pannello touch screen e da un computer portatile per un facile utilizzo.
SPECIFICHE:
SPECIFICHE:
|
|
Forno rotante a tre zone ![]() |
|
|
|
|
|
![]() ![]() |
|
Velocità di rotazione del tubo
|
|
Angolo di inclinazione del forno
|
|
Pompa del vuoto e manometro
|
|
Stazione di miscelazione gas MFC |
|
Alimentatore volumetrico e serbatoio di raccolta
![]() ![]() Fig.1 Fig.2 |
|
|
|
Garanzia
|
Garanzia limitata di un anno con assistenza a vita (le parti di consumo come i tubi di lavorazione, gli O-ring e gli elementi riscaldanti non sono coperti dalla garanzia; si prega di ordinare le parti di ricambio nei prodotti correlati sotto).
|
Computer portatile, software di controllo (opzionale)
|
|
|
|
|
|
|