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MTI  |  SKU: OTF-1200X-S-Mist

Forno CVD MIST economico (1200°C max.) per la crescita di cristalli - OTF-1200X-S-Mist

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Forno CVD MIST economico (1200°C max.) per la crescita di cristalli - OTF-1200X-S-Mist

MTI

SPECIFICHE:

Caratteristiche

 OTF-1200X-S-Mist è un sistema MIST CVD compatto ed economico per la crescita di film sottili epitassiali o di cristalli singoli fino a1200ºC. Il forno è integrato con un generatore di nebbia a ultrasuoni da 1,7 MHz e un sistema di erogazione del gas a 2 canali.

Forno
  • Il forno a tubi divisibili con  1200oC Temperatura massima di lavoro 
  • Zona di riscaldamento lunga 200 mm con zona a temperatura costante lunga 60 mm.
  • Regolatore di temperatura programmabile a 30 segmenti con +/- 1ºC  precisione
  • Potenza: 1,2 KW, 120VAC ( +/- 10% monofase 50/60Hz
  • Fare clic sull'immagine a sinistra per vedere le specifiche dettagliate

Tubo al quarzo e portacampioni
     
  • Tubo di lavorazione al quarzo con flange e dimensioni di OD 60 mm x ID 55 mm x L 600 mm.
  • È incluso un portacampioni in quarzo che può contenere 4 pezzi di substrato 10x10x0,5 mm a 45 gradi.
  • Fare clic sull'immagine a sinistra per ordinare il ricambio

Generatore di nebbia a ultrasuoni
  
  •  Il generatore di ultrasuoni da 1,7 Mhz si trova in un serbatoio ermetico SS316. (Fare clic sull'immagine a sinistra per le specifiche)
    • 3 livelli di potenza di uscita (basso = "1", velocità di iniezione del liquido = 0,2 mL/min), (medio = "2", velocità di iniezione del liquido = 0,4 mL/min), (alto = "3", velocità di iniezione del liquido = 0,6 mL/min). Per ottenere un'elevata qualità di nebulizzazione, la velocità della pompa a siringa deve corrispondere al livello di potenza in uscita. 
    • 7 livelli di impostazione del tempo (spia "Out"), "1" = nessuna temporizzazione limitata, "2" = 30 min, "3" = 60 min, "4" = 90 min, "5" = 120 min, "6" = 150 min, "7" = 180 min.  
  • La pompa a siringa per liquidi è dotata di una siringa di plastica da 20 ml per l'iniezione automatica. La gamma di velocità della pompa per iniezione di liquidi è 0,004 ml/min - 70 ml/min.
  • La funzione di riscaldamento della temperatura è disponibile su richiesta. La temperatura massima può arrivare a 250 °C
  • Il generatore di nebbia è collegato a un forno a tubi tramite un tubo in acciaio inox da 1/4".

Sistema di erogazione del gas
  • Due flussimetri galleggianti con una portata compresa tra 16 e 160 mL/min.
  • Un serbatoio di miscelazione in acciaio inossidabile incorporato all'interno per una migliore miscelazione del gas
  • Tre Raccordi per tubi da 1/4" (nylon o acciaio inox)
  • Tre valvole a spillo per il vuoto in SS304

Pompa per vuoto (opzionale)
  • La porta per il vuoto KF 25 è installata sulla flangia del tubo di lavorazione con una valvola per il collegamento a una pompa per il vuoto
  • Si consiglia vivamente di utilizzare una pompa a secco per prolungare la durata di vita di Mist CVD.
  • Fare clic sull'immagine a sinistra per ordinare una pompa, se necessario.
Dimensioni Forno con tubo 1000 L x 400 L x 390 H (mm)
Generatore di ultrasuoni: 240 L x 220 W x 400 H (mm)
Pompa a siringa:  220 L x 150 W x 160 H (mm)
Sistema di erogazione del gas: 360 L x 380 L x 200 H (mm)
Peso netto TBD
Garanzia
Garanzia limitata di un anno con assistenza a vita (le parti di consumo, come i tubi di lavorazione e gli o-ring, non sono coperte dalla garanzia; si prega di ordinare le parti di ricambio ai prodotti correlati indicati di seguito).
Applicazione
Questo tipo di nebulizzazione CVD può essere utilizzato per la crescita di cristalli di Ga2O3 di alta qualità.

Conformità
  • Certificato CE
  • La certificazione NRTL o CSA è disponibile a pagamento. 
Articolo di riferimento
Video del funzionamento


       
           
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