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Reattore rotante a 8/6/4 vasche (50 ml) fino a 250°C e 10 MPa (miscelazione e mulino a sfere) - BGP-R8-D

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Contenitori in lega Cr12MoV da 80 mL con adattatore per la macinazione centrifuga planetaria sottovuoto - PCV-SS-80

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Flangia di tenuta in PTFE da 80 mm con valvole - EQ-FG-80PTFE

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80 OD x 73 IDx 300L mm Tubo di quarzo semiaperto per forno tubolare fai da te/riscaldatore a induzione - HQT80

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800? Forno di fusione e tempra rapida dalla fase liquida al Ga Melt-QF-800

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Forno ad alto vuoto a camera SS310 da 800°C 8" ID VBF-800X-HV

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Forno a camera ad alto vuoto e pressione a 800°C (500x500x500 mm fino a 3,5 bar) GSL-800-L

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800°C max. Forno CSS e RTP con supporto rotante per wafer 5x5" - RTP-II-5-R

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Sistema di deposizione a strato atomico potenziato da plasma a 800°C (PE-ALD) con stadio rotante da 4" - ALD-800X-4-PE

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Raccoglitore a tamburo 80Dx200L con regolatore di velocità fino a 4000 giri/min per l'elettrofilatura fai da te - MSK-ESDC-80-4000

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Forno a convezione certificato NRTL/CSA da 80L (18x16x18", 200C) con regolatore digitale della temperatura. Controllore di temperatura digitale - BPG-7082

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Camera di prova termica rapida programmabile da 80L (da -75C a +150C, UN38.3.4.2) - MSK-TE906-80L

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Camera di prova termica 80L (da -40 C a +100C, temperatura controllata programmabile) - MSK-TL-80L

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Guarnizione in rame da 82 mm di diametro per la flangia Conflat del forno ad alta pressione HPF-800-ORing-OFCu82

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850 (1560 ) Rivestimento antiossidazione al nitruro di boro (1 pinta) - EQ-634-BN

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Raschietto di 85 mm di larghezza per la verniciatura serigrafica - EQ-SPCS-85

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Lame diamantate da 86 mm di diametro esterno x 0,1 mm di spessore - EQ-EC422-Blade

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Cavo di alimentazione per impieghi gravosi a 3 conduttori, 8AWG, approvato UL

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Die SiC con diametro interno di 8 mm per OTF-1500X-S-ST e OTF-1500X-S-CR

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Tubo da 8 mm a spina d'aria M-Style per il collegamento al compressore d'aria - MTI-8MM-MStyle