MTI  |  SKU: VTC600HD3-RF3

3 teste RF/DC per il rivestimento di plasma sputtering per polveri con sistema di purificazione del gas a 1 PPM - VTC-3HD-VP

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3 teste RF/DC per il rivestimento di plasma sputtering per polveri con sistema di purificazione del gas a 1 PPM - VTC-3HD-VP

MTI

Il VTC-3HD-VP è un sistema di sputtering magnetronico al plasma RF a tre teste da 1" progettato per il rivestimento di polveri per formare varie strutture di celle centrali. Le sorgenti di alimentazione DC e RF sono incluse per il rivestimento di materiali metallici e isolanti. Il portacampioni a vibrazione è costruito all'interno della camera per far saltare la polvere durante il rivestimento, mentre il sistema di purificazione del gas è utilizzato per sostituire la turbopompa e fornire O2 e H2O inferiori a 1 ppm per una migliore qualità del rivestimento. 

SPECIFICHE

Potenza in ingresso
  • Monofase 220VAC +/- 10%, 50/60 Hz
  • 2000 W (compresi pompa del vuoto e refrigeratore d'acqua)
  • Se la tensione è di 110 V, è possibile ordinare un trasformatore da 3000 W presso MTI (fare clic sull'immagine a sinistra per i dettagli).



Potenza della sorgente

  • Tre sorgenti di potenza di sputtering sono integrate in un'unica scatola di controllo (fare clic sull'immagine sottostante per vedere le specifiche dettagliate)
    • Sorgente DC: 500 W di potenza per il rivestimento di materiali metallici (Fig. 1)
    • Sorgente RF: 300 W di potenza, frequenza 13,56 MHz per il rivestimento di materiali non conduttivi (Foto 2)
 -- Pic 1  -- Pic 2






Testa di sputtering a magnetrone

  • Sono incluse tre teste di sputtering a magnetrone da 1" con camicie di raffreddamento ad acqua, inserite nella camera di quarzo tramite morsetti rapidi.
  • Il cavo RF di ricambio può essere acquistato presso MTI 
  • Un otturatore ad azionamento manuale è incorporato nella flangia 
  • Il refrigeratore d'acqua a ricircolo da 16 L/min è incluso per il raffreddamento delle teste di sputtering 
Foto. 1

Obiettivo di sputtering

  • Dimensioni del target richieste: 1" di diametro x 1/8" di spessore max
  • Gamma di distanza di sputtering: 50 - 80 mm regolabile
  • Angolo di sputtering: 0 - 25° regolabile 
  • Bersaglio Cu da 1" di diametro e Al2O3 sono inclusi per i test dimostrativi
  • Su richiesta sono disponibili diversi target di ossido da 1" per lo sputtering, con un costo aggiuntivo.
  • Per l'incollaggio dei target, sono incluse piastre di supporto in rame da 1 mm e 2 mm. L'epossidica argentata e le piastre di supporto in rame supplementari possono essere ordinate presso MTI.

Camera da vuoto

  • Camera da vuoto: 256 mm OD x 238 mm ID x 276 mm Altezza, in quarzo ad alta purezza.
  • Flangia di tenuta: 274 mm Dia. in alluminio con O-ring in silicone per alte temperature
  • La gabbia di schermatura in acciaio inox è inclusa per schermare al 100% le radiazioni RF dalla camera.
  • Livello di vuoto massimo: 1,0E-5 Torr con turbopompa e camera di cottura 

Portacampioni a vibrazione

  • L'amplificazione delle vibrazioni è regolabile da 400 a 2000 RPM in termini di velocità del motore.
  • Un serbatoio per la polvere da 2" (a forma di tazza) si trova sul motore di vibrazione. La polvere rimbalza e si auto-rota durante il processo di rivestimento.
  • Quantità di polvere consigliata: 5 - 20 ml
  • Dimensione delle particelle suggerita: 1 ~ 1000 micron (la polvere deve essere asciugata sottovuoto prima del rivestimento)
  • La fase di miscelazione a lama è disponibile su richiesta per quantità maggiori di polvere.

Sistema di purificazione del gas

  • Tecnologia innovativa di MTI: l'utilizzo di un sistema di purificazione del gas in sostituzione della turbopompa per ottenere il rivestimento della batteria.
    • Due colonne di setacci molecolari sono integrate nel sistema, in grado di rimuovere l'ossigeno e l'umidità in misura inferiore a < 1 PPM.
    • Regolatore di temperatura di rigenerazioneè integrato per rigenerare automaticamente i filtri
    • La funzione di spurgo automatico è integrata per ridurre rapidamente O2 < 200 ppm e H2O < 50 ppm prima del riciclo.
    • Il sistema di controllo automatico della pressione è integrato per mantenere la pressione a un livello costante.
    • È incluso un touch panel PLC a colori da 6" che può impostare e visualizzare il livello di umidità e di pressione..
    • Fare clic sull'immagine della colonna di sinistra per vedere le specifiche dettagliate
  • Dopo la purificazione con O2 e H2O < 1 PPM, la pressione della camera può essere impostata a un livello di vuoto adeguato (50 - 100 m-torr) per lo sputtering, che è molto meglio del vuoto di 10-5 torr.
Opzionale

Conformità

  • Approvazione CE
  • La certificazione NRTL è disponibile su richiesta con un costo aggiuntivo; per il preventivo, contattare il nostro rappresentante commerciale.

Opzionale

  • Questa torre di verniciatura può essere inserita in una camera a guanti standard con una modifica per i materiali sensibili all'aria. (Fig. 1)
  • Su richiesta, è disponibile un torre di verniciatura a 3 teste più grande con camera di aspirazione da 12", ordine di campionamento da 8" e 3 pistole di sputtering da 2" (Fig. 2).
Foto. 1 Fig. 2