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Pinzette ad alta precisione e ultra fini (2AB-SA) - EQ-TZR-2AB-SA

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Pinzette di alta precisione e ultra fini (5-SA) - EQ-TZR-5-SA

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Pinzette ad alta precisione e ultra fini (OO-SA) - EQ-TZR-OO-SA

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Pinzette ad alta precisione e ultra fini - EQ-TZR-OOD-SA

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Forno a tubo di ossigeno ad alta pressione con ID 20 mm fino a 1100 C @ 610 PSI - OTF-1200X-HP-55

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Reattore ad alta pressione con rivestimento in PTFE Fino a 220C e max 3-10 Mpa per forno rotante con opzione da 50 o 100 ml - RC-SS-XX

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Elettrovalvola ad alta pressione max 15 MPa, MTI-GSR-A52401004

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Valvola a spillo SS 1/4BSPP ad alta pressione - EQ-HPV-1/4BSPP

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Forno per tubi ad alta pressione con tubo in lega °110 (80 mm ID) (max. 20 MPa @300oC.) - OTF-1200X4-HP20

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Forno tubolare ad alta pressione con tubo in lega °60 o °80 (temperatura massima 900C o 1100C) - OTF-1200X-HPV

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Substrato ceramico di allumina di elevata purezza (99,6%) 1 "x1 "x 0,254 mm, 2sp

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Substrato ceramico di allumina di elevata purezza (99,6%) 2 "x2 "x 0,5 mm, 2sp

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Substrato ceramico di allumina di elevata purezza (99,6%) 2 "x2 "x 0,5 mm, 1sp

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Substrato ceramico di allumina di elevata purezza (purezza: 99,9%) 2 "x2 "x 0,5 mm, 2sp

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Obiettivo in ossido di alluminio (AL2O3) di elevata purezza al 99,99%, diametro 2" x 2 mm - TGT-AL2O3

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Obiettivo in alluminio (Al) ad alta purezza, diametro 4" x 0,25" 4N - TGTAl101D635TUS

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Tubo di grafite di elevata purezza: 2,5" OD x 2" ID x 48" L (63,5ODx50IDx1168L, mm), - TG-60D-46L

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Tubo in carburo di silicio (SiC) di elevata purezza: 50 OD x 38 ID x 1000 L (mm) - TSC50D1000L

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Tubo in carburo di silicio (SiC) di elevata purezza: 65 OD x 53 ID x 1000 L (mm) - TSC65D1000L

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Tubo in carburo di silicio (SiC) di elevata purezza: 85 OD x 75 ID x 1300 L (mm) - TSC85D1300