MTI  |  SKU: GESbe50D05C2R1US

Wafer Ge (110)N, drogato Sb, diametro 2" x 0,5 mm, 2SP Resistività: 1-5 ohm.cm

€363,34


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Wafer Ge (110)N, drogato Sb, diametro 2" x 0,5 mm, 2SP Resistività: 1-5 ohm.cm

MTI

Specifiche dei wafer Ge

  • Metodo di crescita: CZ
  • Orientamento: (110) +/_0,5 Deg
  • Dimensioni del wafer: diametro 2" x 500 micron 
  • Finitura superficiale (RMS o Ra) : Due lati lucidati otticamente < 30A
  • Doping: Drogato con Sb
  • Tipo di conduttore: Tipo N
  • Resistività: 1-5 ohm.cm (Se si desidera misurare la resistività in modo accurato, 
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     Strumento portatile a 4 sonde per prove di resistività.)                           
  • Pacchetto: camera bianca di classe 1000
     

Proprietà tipiche:

  • Struttura: Cubica, a = 5,6754 A
  • Densità: 5,323 g/cm3 a temperatura ambiente
  • Punto di fusione: 937,4 oC
  • Conduttività termica: 640