Wafer Ge (100) +/- 1 grado, diametro 2" x 0,5 mm, 2SP, tipo N (drogato con Sb), resistività: 0,1-0,5 ohm-cm

Specifiche dei wafer Ge

• Metodo di crescita: CZ
• Orientamento:  (100)+/- 1 ^o
  
• Dimensione del wafer: diametro 2" x 500 micron 
• Lucidatura della superficie: due lati lucidati a caldo
• Rugosità superficiale: RMS o Ra:~ 10 A (tramite AFM)
• Doping: Drogato con Sb
• Tipo di conduttore: Tipo N
• Resistività: 0,1-0,5 Ohm/cm (Se si desidera misurare con precisione la resistività, 
    si prega di ordinare il nostro Strumento portatile a 4 sonde per prove di resistività.)                      
• Pacchetto: camera bianca di classe 1000    

Proprietà tipiche:

• Struttura: Cubica, a = 5,6754 A
• Densità: 5,323 g/cm3 a temperatura ambiente
• Punto di fusione: 937,4 ^oC
• Conduttività termica: 640