Wafer Ge (100)+/-1,5 gradi, non drogato, 2 "x0,5 mm, 1SP, R>50 ohm-cm

Specifiche del wafer Ge

• Metodo di crescita: CZ
• Orientamento: (100) +/-1,5 Deg.
• Dimensioni del wafer: 2" dia x 500 micron 
• Lucidatura della superficie: un lato lucidato a caldo
• Rugosità superficiale: RMS o Ra: ~ 10 A (mediante AFM)
• Doping: Non drogato
• Tipo di conduttore: Tipo N
• Resistività: >50 Ohm/cm (Se si desidera misurare la resistività in modo accurato, 
    si prega di ordinare il nostro Strumento portatile a 4 sonde per prove di resistività.)                    
• Pacchetto: camera bianca di classe 1000  

Proprietà tipiche:

• Struttura: Cubica, a = 5,6754 A
• Densità: 5,323 g/cm3 a temperatura ambiente
• Punto di fusione: 937,4 ^oC
• Conduttività termica: 640