MTI | SKU:
IPSna50D035C1US
InP-(VGF- Grown) (100) drogato con Sn, wafer da 2 "x0,35 mm, 1sp
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InP-(VGF- Grown) (100) drogato con Sn, wafer da 2 "x0,35 mm, 1sp
MTI
Wafer a cristallo singolo di InP
Metodo di crescita: VGF
Orientamento: (100)
Dimensioni: 2" diametro x 0,35 mm
Doping: Drogato con Sn
Tipo di conduzione: S-C-N
Lucidatura: un lato lucidato
Resistività: (2,82-2,99)x10^-3 ohm.cm
Mobilità: 2170-2220 cmE2/V.S
EPD: <5000 /cmE2
Concernenza del vettore: (9,62-9,99) x10^17 /cm^3
Ra (ruvidità media) : < 0,4 nm
Orientamento: (100)
Dimensioni: 2" diametro x 0,35 mm
Doping: Drogato con Sn
Tipo di conduzione: S-C-N
Lucidatura: un lato lucidato
Resistività: (2,82-2,99)x10^-3 ohm.cm
Mobilità: 2170-2220 cmE2/V.S
EPD: <5000 /cmE2
Concernenza del vettore: (9,62-9,99) x10^17 /cm^3
Ra (ruvidità media) : < 0,4 nm
Superficie e imballaggio pronti per l'EPI
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