Substrato di ceramica e vetro dalla A alla Z

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Substrato di vetro rivestito di ITO 1" x 1" x 1,1 mm, R: 16-19 ohm/sq, spessore nominale del film ITO: 90 nm+/10nm

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Substrato di vetro rivestito di ITO 1" x 1" x 0,7 mm, R:6-7 ohm/sq, spessore nominale del film ITO: 250 nm+/25nm - ITO252507R7HFT250nm

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Substrato di vetro rivestito di ITO 1" x 1" x 0,7 mm, R:12-15 ohm/sq, spessore nominale del film di ITO: 150 (+/10%) nm

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Substrato di vetro rivestito di ITO 1" x 1" x 0,7 mm, R:12-15 ohm/sq, spessore nominale del film di ITO: 115 (+/10%) nm

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Substrato di vetro rivestito di ITO (250 nm): 100 mm x 100 mm x 0,7 mm, R<7, spessore nominale del film ITO: 250 nm ohm/sq

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Substrato di vetro rivestito di ITO (180nm) 100x100x0,7 mm, R: 9-15 ohm/sq,

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Piastra di grafite isomodellata, rettificata, 0,125" T x 4" L x 4" L per celle a combustibile - ISG4425G-US

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Substrato ceramico di allumina di elevata purezza (purezza: 99,9%) 2 "x2 "x 0,5 mm, 2sp

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Substrato ceramico di allumina di elevata purezza (99,6%) 2 "x2 "x 0,5 mm, 1sp

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Substrato ceramico di allumina di elevata purezza (99,6%) 2 "x2 "x 0,5 mm, 2sp

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Substrato ceramico di allumina di elevata purezza (99,6%) 1 "x1 "x 0,254 mm, 2sp

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Fogli di mica di alta qualità, 25 mm x 25 mm x 0,27 mm di spessore, 10 pkg - CmMICASheet2525027

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Fogli di mica di alta qualità, 15 mm x 15 mm x 0,27 mm di spessore, 10 pkg - CmMICASheet1515027

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Substrato ceramico Hexoloy SG SiC, 2 "x2 "x 3,0 mm, entrambe le facce lappate - CmSGSiC505030SN

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Substrato ceramico Hexoloy SG SiC, 2 "x2 "x 1,0 mm, entrambe le facce lappate - CmSGSiC505010SN

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Film di grafene su Ni/SiO2/Si Ø 100 mm,

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Wafer in silice fusa, 4" x 1,0 mm, 1 lato lucido - SOF101D10C1

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Wafer in silice fusa, 4" x 0,5 mm, 2 lati lucidati

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Wafer in silice fusa, 4" x 0,5 mm, 1 lato lucido

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Substrato di silice fusa, 10x10x1,0 mm, due lati lucidati