RTP (Trattamento termico rapido)

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Forno a tubo RTP a due zone con riscaldamento a infrarossi (ID 4'') con portacampioni scorrevoli - OTF-1200X-IR-IISL

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Forno tubolare CVD a tre zone con tubo al quarzo da 8,5" e flangia scorrevole (1100C) - GSL-1100X-8,5-III-SR

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Forno tubolare a 1200 C con scorrimento interno del campione tramite magnete per DVD e RTP - OTF-1200X-S-DVD

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Forno sigillato a riscaldamento e raffreddamento rapido (1100°C 2" I.D.) - VBF-1100X-Q

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Forno di pressatura termica ultraveloce da tavolo (UFTP) fino a 2900°C con velocità > 200K/s e 10 kgf -RTP-M1

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Forno tubolare compatto a scorrimento automatico (2" OD, 1200C max.) per riscaldamento/raffreddamento rapido - OTF-1200X-50-SL

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Forno PECVD compatto a scorrimento automatico con tubo da 2" e pompa del vuoto, max. 1200C - OTF-1200X-S50-PESL

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Forno RTP compatto ad atmosfera controllata con tubo al quarzo da 4" ID fino a 1100°C - OTF-1200X-4-RTP

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Forno RTP controllato in atmosfera per wafer da 8" fino a 1000 °C - VBF-1050X-H8

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Forno CSS e RTP a 950°C max con supporto rotante per wafer da 12" - OTF-1200X-RTP-II-CSS-300

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800°C max. Forno CSS e RTP con supporto rotante per wafer 5x5" - RTP-II-5-R

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Forno a cassetta 1700C con dispositivo scorrevole per un rapido riscaldamento e raffreddamento - KSL-1700X-RTP