Substrato spesso in nitruro di alluminio per il supporto campioni del forno RTP - EQ-AIN-Holder
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Substrato spesso in nitruro di alluminio per il supporto campioni d...
Substrato spesso in nitruro di alluminio per il supporto campioni del forno RTP - EQ-AIN-Holder
MTI
Proprietà dei substrati ceramici in nitruro di alluminio | |
Numero di articolo |
Supporto AIN |
Purezza (wt%) |
99% (AN5116) |
Densità (g/cm3) |
>3.26 |
Conduttività termica (W/m. K) |
>170 |
Espansione termica (x10-6/oC) |
<4.2 |
Rigidità dielettrica (Kv/mm) |
>15 |
Costante dielettrica (a 1MHZ) |
8.7 |
Tangente di perdita (x104@1 MHz) |
3 - 7 |
Resistività di volume (ohm-cm) |
>1014 |
Resistenza alla flessione (Kgf/mm) |
>30 |
Specifiche del substrato |
Diametro 3" o 5", spessore 0,65 mm |
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Configurazione del prodotto
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L'AIN non lucidato al centro del supporto è in grado di contenere il test campioni fino a 3" o 5" di diametro.
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