Sistemi compatti di vaporizzazione dei liquidi con controllo della temperatura e della pressione per CVD e DLCVD - LVD-F1

LVD-F1 è un sistema di evaporazione di liquidi di precisione ed economico per la CVD o la DLCVD su scala di laboratorio, che può trasportare tutti i tipi di liquidi, come ETOH, SnCl4, TiCl4r, SiHCl3 e Zn(C2H5)2, ecc. È uno strumento ideale per la lavorazione CVD di nanofili e film nella ricerca sui materiali.

SPECIFICHE

Struttura del prodotto
Ingresso di potenza	220V 50Hz 2200 W Consumo di energia 110V disponibile con trasformatore
Controllo del flusso di liquido	Gamma di portata: 1 - 82 ± 1ml/minuto regolabile (portata minima: 1 ml/min)
Riscaldatore e regolatore di temperatura	Camera di evaporazione SS316, fino a 550ºC Linea del gas di riscaldamento, fino a 200ºC) per evitare la condensazione del liquido. Regolatore di temperatura a punto singolo per l'evaporatore e la linea di riscaldamento.
Controllo del flusso di gas	Il gas di trasporto (gas inerte) è controllato da un flussometro di precisione a galleggiante (200 - 2000 mL/min regolabile). Il regolatore di flusso massico digitale opzionale è disponibile a un costo aggiuntivo. Manometro incorporato nel pannello frontale Due valvole a spillo SS sono installate per controllare l'ingresso e l'uscita del gas Dimensioni del tubo di uscita del gas di vapore: 1/4 "OD Nota: il tubo PTFE da 1/4'', il tubo SS da 1/4'' e il becher non sono inclusi; i clienti devono prepararli in base alle esigenze sperimentali. Il serbatoio del gas inerte è necessario per l'erogazione del vapore.
Nota applicativa	Questo sistema può essere utilizzato con tutti i forni tubolari e i forni CVD MTI; fare clic sull'immagine qui sotto per vedere come, e scegliere un forno in " Sistema di forni CVD"
Conformità	Certificato CE La certificazione NRTL o CSA è disponibile su richiesta